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Produzione high-tech di microchip

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Livelli di umidità relativa inferiori al 30% favoriscono l’insorgere di scariche elettrostatiche che possono danneggiare gravemente i componenti elettronici.

Inoltre, la velocità di molte reazioni chimiche, inclusi i processi di ossidazione, dipendono dall’umidità relativa. Uno stretto controllo dell’umidità si traduce in maggiore controllo dei processi.
Poiché la viscosità del photoresist (da cui dipende la possibilità di stendere un film di spessore costante) è estremamente sensibile all’umidità relativa, nelle lavorazioni dei semiconduttori sono richiesti limiti di controllo estremamente precisi.

08, EN 13779:2008 VDI 6022, DIN 1946-4, D.P.R. 14 gennaio 1997, UNI 11425:2011) gli impianti di ventilazione e condizionamento delle sale operatorie devono assicurare condizioni termoigrometriche ideali per le attività dei medici conciliando anche le esigenze dei pazienti. Un accurato controllo dell’umidità non è quindi solo attributo accessorio, ma un requisito normativo.

Categoria
Applicazioni di processo
Codice
Produzione high-tech di microchip
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